讓(rang)妳(ni)最快速的(de)了解X射(she)線探(tan)傷無(wu)損(sun)檢驗技術

　　X射(she)線探(tan)傷是指利用(yong)X射(she)線能(neng)夠(gou)穿透金屬材料(liao)，並(bing)由於(yu)材料(liao)對(dui)射(she)線的(de)吸收(shou)和散射(she)作用(yong)的不(bu)同(tong)，從而(er)使(shi)膠片(pian)感(gan)光(guang)不(bu)壹(yi)樣(yang)，於是在底(di)片(pian)上形成(cheng)黑度不(bu)同(tong)的影像(xiang)，據(ju)此來判斷(duan)材料(liao)內部(bu)缺(que)陷情(qing)況(kuang)的(de)壹(yi)種檢(jian)驗方法(fa)。

　　X射(she)線能(neng)在無(wu)損(sun)檢驗技術中得(de)到(dao)廣泛(fan)應用(yong)的主(zhu)要(yao)原因(yin)是：X射(she)線探(tan)傷是指利用(yong)X射(she)線能(neng)夠(gou)穿透金屬材料(liao)，並(bing)由於(yu)材料(liao)對(dui)射(she)線的(de)吸收(shou)和散射(she)作用(yong)的不(bu)同(tong)，從而(er)使(shi)膠片(pian)感(gan)光(guang)不(bu)壹(yi)樣(yang)，於是在底(di)片(pian)上形成(cheng)黑度不(bu)同(tong)的影像(xiang)，據(ju)此來判斷(duan)材料(liao)內部(bu)缺(que)陷情(qing)況(kuang)的(de)壹(yi)種檢(jian)驗方法(fa)。

　　X射(she)線探(tan)傷原(yuan)理(li)

　　X射(she)線探(tan)傷是利用(yong)X射(she)線可(ke)以(yi)穿透物(wu)質和在物(wu)質中具有(you)衰減的(de)特性(xing)，發現(xian)缺(que)陷的壹(yi)種無(wu)損(sun)檢測方法(fa)。

　　X射(she)線的(de)波(bo)長很(hen)短壹(yi)般為(wei)0.001～0.1nm。

　　X射(she)線以(yi)光(guang)速直(zhi)線傳(chuan)播，不(bu)受電(dian)場(chang)和(he)磁場的(de)影響，可(ke)穿透物(wu)質，在穿透過程(cheng)中有(you)衰減，能(neng)使膠(jiao)片(pian)感(gan)光(guang)。

　　當(dang)X射(she)線穿透物(wu)質時，由(you)於射(she)線與(yu)物(wu)質的相互(hu)作(zuo)用(yong)，將產生(sheng)壹(yi)系(xi)列極為(wei)復(fu)雜(za)的(de)物(wu)理(li)過程(cheng)，其(qi)結(jie)果使(shi)射(she)線被吸收(shou)和散射(she)而(er)失(shi)去(qu)壹(yi)部分(fen)能(neng)量(liang)，強(qiang)度相應減(jian)弱(ruo)，這種現(xian)象(xiang)稱(cheng)之(zhi)為(wei)射(she)線的(de)衰減。

　　X射(she)線探(tan)傷的(de)實(shi)質是根據(ju)被檢驗工件(jian)與其內部(bu)缺(que)陷介質對(dui)射(she)線能(neng)量(liang)衰減程(cheng)度不(bu)同(tong)，而(er)引起(qi)射(she)線透(tou)過工件(jian)後強(qiang)度差異，使(shi)感(gan)光(guang)材料(liao)（膠片(pian)）上(shang)獲得(de)缺(que)陷投(tou)影所產生(sheng)的(de)潛影，經過暗(an)室(shi)處理(li)後獲得(de)缺(que)陷影像(xiang)，再對(dui)照標(biao)準(zhun)評(ping)定工件(jian)內部缺(que)陷的性(xing)質和底片級(ji)別(bie)。

　　設備(bei)

　　(1)射(she)線源

　　X射(she)線機是X射(she)線探(tan)傷的(de)主要(yao)設備(bei)。國(guo)產X射(she)線探(tan)傷機已系(xi)列化(hua)，分(fen)為(wei)移動式和便(bian)攜式(shi)兩(liang)大(da)類(lei)

　　(2)射(she)線膠(jiao)片

　　X射(she)線膠(jiao)片是壹(yi)種片(pian)基(ji)兩(liang)面均(jun)塗(tu)有(you)結(jie)合層(ceng)、乳(ru)劑層(ceng)和(he)保護(hu)層(ceng)的(de)專(zhuan)用(yong)膠片(pian)。壹(yi)般按(an)照(zhao)乳(ru)劑中銀(yin)鹽顆粒度由小到(dao)大(da)的(de)順序將膠(jiao)片(pian)分(fen)為(wei)J1,J2,J3三種。

　　銀(yin)鹽粒度越(yue)小缺(que)陷影像(xiang)越(yue)真切(qie)，但感(gan)光(guang)速度變慢，曝(pu)光(guang)量(liang)會(hui)成(cheng)倍(bei)增加。

　　因(yin)此，只有目的(de)在(zai)於(yu)檢測細小裂(lie)紋等缺(que)陷時才(cai)選(xuan)用(yong)微粒(li)或(huo)超(chao)微粒(li)的(de)膠片(pian)。壹(yi)般要(yao)求的(de)選(xuan)用(yong)J3級(ji)膠(jiao)片用(yong)於感(gan)光(guang)速度快，照相質量(liang)要(yao)求不(bu)高(gao)的(de)情(qing)況(kuang)。鍋爐壓力(li)容(rong)器(qi)選(xuan)擇J2膠片(pian)。

　　(3)增感(gan)屏

　　射(she)線膠(jiao)片對(dui)射(she)線的(de)吸收(shou)率是很(hen)低的，壹(yi)般只(zhi)能(neng)吸收(shou)射(she)線強(qiang)度的1%，其余絕(jue)大(da)部(bu)分射(she)線穿過膠(jiao)片(pian)而(er)損(sun)失掉(diao)，這將使透(tou)照時間大(da)大(da)延長(chang)。為(wei)了提(ti)高(gao)膠(jiao)片(pian)的(de)感(gan)光(guang)速度，縮短曝(pu)光(guang)時間，通常(chang)在膠(jiao)片兩(liang)側夾(jia)以(yi)增感(gan)屏。

　　金(jin)屬增感(gan)屏是由金(jin)屬箔粘(zhan)合(he)在(zai)紙(zhi)基(ji)或(huo)膠(jiao)片基(ji)上(shang)制(zhi)成(cheng)。

　　金屬增感(gan)屏有(you)前(qian)後屏之(zhi)分(fen)，與射(she)線膠(jiao)片緊密接(jie)觸(chu)，布置(zhi)在先(xian)於膠片接(jie)受射(she)線照(zhao)射(she)者稱(cheng)前(qian)屏，後於膠片接(jie)受射(she)線照(zhao)射(she)者稱(cheng)後屏。增感(gan)屏被射(she)線透(tou)射(she)後可(ke)產生(sheng)二(er)次電子(zi)和(he)二次射(she)線，增加對(dui)膠片(pian)的(de)感(gan)光(guang)作用(yong)。

　　同(tong)時它(ta)對(dui)波(bo)長較(jiao)長的(de)散射(she)線又(you)有吸收(shou)作用(yong)（又(you)稱(cheng)濾(lv)波(bo)作用(yong)），減小(xiao)散射(she)線引起(qi)的(de)灰霧(wu)度，提(ti)高(gao)了底片的成(cheng)像(xiang)質量(liang)。

　　(4)線(xian)型像(xiang)質計(ji)

　　像(xiang)質計(ji)是用(yong)來檢(jian)查(zha)透(tou)照技術和(he)膠(jiao)片處理(li)質量(liang)的(de)。

　　衡(heng)量(liang)該(gai)質量(liang)的(de)數值(zhi)是像(xiang)質指數，它(ta)等於(yu)底片上能識別出(chu)的最細鋼絲(si)線(xian)的(de)編號。

　　使用(yong)線型(xing)像(xiang)質計(ji)時要(yao)註意(yi)以(yi)下幾(ji)方面(mian)：

　　1)線(xian)型像(xiang)質計(ji)應放在射(she)線源壹(yi)側的(de)工件(jian)表面被檢焊縫(feng)區(qu)長度1/4處，鋼絲(si)應橫(heng)跨(kua)焊縫(feng)並(bing)與焊縫(feng)軸(zhou)線(xian)垂(chui)直(zhi)，細鋼絲(si)置(zhi)於(yu)外(wai)側。

　　當(dang)射(she)線源壹(yi)側無(wu)法放置像(xiang)質計(ji)時，也(ye)可(ke)放在膠片(pian)壹(yi)側的(de)工件(jian)表面上，但應通(tong)過對(dui)比試(shi)驗，使(shi)實(shi)際(ji)像(xiang)質指數值(zhi)達到(dao)規(gui)定的(de)要(yao)求。

　　2)像(xiang)質計(ji)放在膠片(pian)壹(yi)側工件(jian)表面上時，象(xiang)質計(ji)應附(fu)加(jia)“F”標(biao)記(ji)，以(yi)示區(qu)別(bie)。

　　3)采用(yong)射(she)線源置(zhi)於(yu)圓心位(wei)置(zhi)的周(zhou)向曝(pu)光(guang)技術時，像(xiang)質計(ji)應放在內壁(bi)，每隔(ge)90°放壹(yi)個。

　　另(ling)外(wai)，射(she)線探(tan)傷系(xi)統的組成(cheng)還(hai)包(bao)括(kuo)鉛(qian)罩、鉛(qian)光(guang)闌(lan)、鉛(qian)遮板(ban)、底部(bu)鉛(qian)板(ban)、暗盒(he)、標(biao)記(ji)帶，其(qi)中標(biao)記(ji)帶可(ke)使每(mei)張(zhang)射(she)線底(di)片與(yu)工件(jian)被檢部位(wei)能(neng)始(shi)終對(dui)照。

　　方法(fa)

　　射(she)線探(tan)傷除照(zhao)相法(fa)外(wai)，還(hai)有(you)X射(she)線熒光(guang)屏觀(guan)察法(fa)、電(dian)視觀(guan)察法(fa)。

　　X射(she)線照(zhao)相法(fa)

　　這種方法(fa)是用(yong)感(gan)光(guang)膠片(pian)代替熒光(guang)觀(guan)察法(fa)的(de)熒光(guang)屏，當(dang)膠片(pian)被X射(she)線照(zhao)射(she)而(er)感(gan)光(guang)後，復(fu)經顯(xian)影，即(ji)可(ke)顯(xian)現(xian)出(chu)不(bu)同(tong)的感(gan)光(guang)程度。

　　若射(she)線的(de)強(qiang)度越(yue)大(da)，則膠片的感(gan)光(guang)越(yue)多，顯(xian)影後的黑度就越(yue)大(da)。

　　當(dang)某處與周(zhou)圍(wei)對(dui)比的(de)黑度較(jiao)大(da)時，則可(ke)確認存在(zai)缺(que)陷。照相法(fa)的靈(ling)敏(min)度高(gao)、適(shi)應性(xing)強(qiang)，同(tong)時膠(jiao)片可(ke)長期保(bao)存待查(zha)。但程序較(jiao)多、費(fei)時、成(cheng)本(ben)較(jiao)高(gao)。

　　X射(she)線熒光(guang)屏觀(guan)察法(fa)

　　X射(she)線透(tou)過被檢查(zha)物(wu)體後，把不(bu)同(tong)強(qiang)度的射(she)線，再(zai)投(tou)射(she)在塗(tu)有熒光(guang)物(wu)質的熒光(guang)屏上(shang)，激(ji)發出(chu)不(bu)同(tong)強(qiang)度的熒光(guang)而(er)得(de)到(dao)物(wu)體的(de)影像(xiang)。

　　如(ru)果我(wo)們(men)能(neng)直(zhi)接(jie)從熒光(guang)屏上(shang)觀(guan)察缺(que)陷影像(xiang)，就稱(cheng)為(wei)X射(she)線熒光(guang)屏觀(guan)察法(fa)。

　　熒光(guang)屏觀(guan)察法(fa)與(yu)照(zhao)相法(fa)的不(bu)同(tong)點：

　　熒光(guang)屏上(shang)所看到(dao)的缺(que)陷影像(xiang)是發亮(liang)的(de)，而(er)在(zai)底片(pian)上(shang)見到(dao)的缺(que)陷影像(xiang)是暗黑的；

　　前(qian)者不(bu)用(yong)暗室(shi)處理(li)，因而(er)暗(an)室(shi)處理(li)影響其影像(xiang)質量(liang)的(de)因素不(bu)存在(zai)，但其它因素與照(zhao)相法(fa)同(tong)；

　　熒光(guang)屏上(shang)的(de)熒光(guang)物(wu)質與照相法(fa)中增感(gan)屏上(shang)的(de)熒光(guang)物(wu)質不(bu)同(tong)，它要(yao)求這種物(wu)質所發熒光(guang)對(dui)人的(de)眼(yan)睛(jing)。

　　熒光(guang)屏觀(guan)察法(fa)能(neng)對(dui)工件(jian)連續(xu)檢查(zha)，並(bing)能迅(xun)速(su)得(de)出結(jie)果。

　　因(yin)此能節省大(da)量(liang)的(de)軟片與(yu)工時，成(cheng)本(ben)低。但是，熒光(guang)屏觀(guan)察法(fa)的(de)靈(ling)敏(min)度要(yao)低壹(yi)些。

　　由於它(ta)不(bu)能像(xiang)照相法(fa)那(na)樣(yang)把射(she)線的(de)能量(liang)積(ji)累(lei)起(qi)來(lai)，它只(zhi)能檢(jian)查(zha)較(jiao)薄的(de)結構簡(jian)單(dan)的(de)工件(jian)。

　　熒光(guang)屏觀(guan)察法(fa)所用(yong)的設備(bei)是X射(she)線發生(sheng)器(qi)及(ji)其(qi)控制(zhi)設備(bei)；熒光(guang)觀(guan)察屏；觀(guan)察和(he)記(ji)錄(lu)用(yong)的輔(fu)助沒(mei)備(bei)；防護(hu)及(ji)傳(chuan)送設備(bei)等。

　　X射(she)線電(dian)視觀(guan)察法(fa)

　　X射(she)線照(zhao)相法(fa)既費工時，又(you)不(bu)經濟，不(bu)適宜於(yu)批(pi)量(liang)生(sheng)產的(de)工廠(chang)。

　　然(ran)而(er)，X射(she)線熒光(guang)屏觀(guan)察法(fa)由(you)於(yu)成(cheng)象(xiang)的(de)光(guang)亮(liang)度差、靈(ling)敏(min)度低，並(bing)且(qie)大(da)多(duo)在熒光(guang)透視箱內(nei)進(jin)行(xing)，故(gu)也(ye)未廣(guang)泛(fan)采用(yong)。隨著光(guang)電微(wei)光(guang)技術的(de)發展(zhan)，微(wei)光(guang)象(xiang)增強(qiang)器(qi)和攝(she)象(xiang)管(guan)得(de)到(dao)重視和廣(guang)泛(fan)應用(yong)。

　　X射(she)線電(dian)視觀(guan)察法(fa)的(de)優(you)點是可(ke)以(yi)直接(jie)觀(guan)察副物(wu)體內(nei)部在靜(jing)態(tai)和(he)動態下的情(qing)況(kuang)，並(bing)能多(duo)次觀(guan)察；不(bu)需照(zhao)相法(fa)那(na)壹(yi)套處理(li)系(xi)統；可(ke)以(yi)流水(shui)作業(ye)，快速。

　　此法的不(bu)足之(zhi)處是靈(ling)敏(min)度比照相法(fa)低；圖象(xiang)增強(qiang)管(guan)接(jie)受輻(fu)射(she)能量(liang)只(zhi)達160kV左(zuo)右，因(yin)而(er)受(shou)到(dao)壹(yi)定限制(zhi)；由(you)於泄露輻(fu)射(she)的影響，檢測幾何形(xing)狀(zhuang)較(jiao)為(wei)復(fu)雜(za)的(de)零件較(jiao)為(wei)困難(nan)。