簡述X射線無(wu)損(sun)探(tan)傷(shang)的(de)清(qing)潔(jie)方法和註(zhu)意事項

　　X射線(xian)無(wu)損(sun)探(tan)傷(shang)是(shi)利用(yong)X射線(xian)可以(yi)穿透物(wu)質(zhi)和(he)在物(wu)質(zhi)中(zhong)具有(you)衰減的(de)特(te)性(xing)，發現缺(que)陷(xian)的(de)壹種(zhong)無損(sun)檢(jian)測(ce)方(fang)法(fa)。
 

　　X射線的(de)波(bo)長很(hen)短壹般(ban)為(wei)0.001～0.1nm。
 

　　X射線(xian)以(yi)光(guang)速直(zhi)線(xian)傳(chuan)播，不受(shou)電場(chang)和磁場的(de)影(ying)響(xiang)，可(ke)穿透物(wu)質(zhi)，在穿透過(guo)程中(zhong)有衰減，能(neng)使(shi)膠(jiao)片(pian)感(gan)光(guang)。
 

　　當(dang)X射(she)線穿透物(wu)質(zhi)時(shi)，由於射線與物(wu)質(zhi)的(de)相(xiang)互(hu)作用(yong)，將產生壹系(xi)列極(ji)為(wei)復雜的(de)物(wu)理(li)過(guo)程，其結果(guo)使(shi)射(she)線(xian)被(bei)吸(xi)收和(he)散(san)射而(er)失(shi)去壹部(bu)分能量，強(qiang)度相(xiang)應(ying)減弱(ruo)，這種現象稱之(zhi)為(wei)射線(xian)的(de)衰減。
 

　　X射(she)線無損(sun)探(tan)傷(shang)的(de)實(shi)質(zhi)是(shi)根(gen)據(ju)被(bei)檢(jian)驗工(gong)件(jian)與其內(nei)部(bu)缺(que)陷(xian)介(jie)質(zhi)對(dui)射線能量(liang)衰減程度不同，而引起(qi)射(she)線(xian)透過(guo)工(gong)件(jian)後(hou)強(qiang)度差(cha)異(yi)，使(shi)感(gan)光(guang)材(cai)料(膠(jiao)片(pian))上(shang)獲(huo)得缺(que)陷(xian)投影(ying)所(suo)產生的(de)潛影(ying)，經(jing)過(guo)暗室處理(li)後獲(huo)得(de)缺(que)陷(xian)影(ying)像(xiang)，再對(dui)照(zhao)標準評定工(gong)件(jian)內(nei)部(bu)缺(que)陷(xian)的(de)性(xing)質(zhi)和(he)底(di)片(pian)級(ji)別(bie)。
 

　　X射(she)線(xian)無損(sun)探(tan)傷(shang)清(qing)潔(jie)方法和註(zhu)意：
 

　　1、請確(que)保(bao)已關閉儀器並(bing)且(qie)已(yi)斷(duan)開(kai)與電源(yuan)線(xian)的(de)連(lian)接。斷(duan)開(kai)與所有的(de)電纜(lan)盒(he)接(jie)頭(tou)的(de)連(lian)接並(bing)確(que)保(bao)超(chao)聲(sheng)波(bo)探(tan)傷(shang)儀(yi)所(suo)有的(de)外接(jie)端(duan)口都(dou)已(yi)用(yong)橡膠(jiao)保(bao)護蓋(gai)蓋(gai)緊(jin)。
 

　　2、對於(yu)難以(yi)去(qu)除(chu)的(de)汙(wu)垢，超(chao)聲(sheng)波(bo)探(tan)傷(shang)儀(yi)維(wei)修(xiu)需(xu)用(yong)壹塊(kuai)濕布蘸(zhan)取柔(rou)性(xing)肥(fei)皂水(shui)進(jin)行(xing)清(qing)潔(jie)。切(qie)勿(wu)使(shi)用(yong)粗面(mian)的(de)清(qing)潔(jie)用(yong)具或(huo)強力去(qu)汙(wu)溶劑以(yi)免損(sun)壞機(ji)殼表(biao)層(ceng)。
 

　　3、請確保所(suo)有可開(kai)啟的(de)艙(cang)門都(dou)已(yi)關(guan)閉。蓋(gai)上網(wang)絡連(lian)接接(jie)口上(shang)的(de)蓋(gai)子(zi)。請(qing)確(que)保(bao)已(yi)正確地關閉電池艙(cang)蓋(gai)。
 

　　4、要恢復(fu)儀器外殼(ke)的(de)原(yuan)有(you)光澤(ze)用(yong)壹塊(kuai)軟布擦(ca)拭機(ji)殼即可(ke)。
 

　　5、取(qu)下(xia)接口保(bao)護蓋(gai)後請(qing)確保(bao)各個(ge)接口處於(yu)幹燥狀(zhuang)態(tai)才能(neng)連(lian)入電纜(lan)。如果(guo)接口不幹請用(yong)幹燥的(de)軟布擦(ca)幹或(huo)者讓其自(zi)然幹透。
 

　　6、屏幕(mu)清(qing)潔(jie)。切(qie)勿(wu)使(shi)用(yong)粗面(mian)的(de)清(qing)潔(jie)用(yong)具或(huo)強力去(qu)汙(wu)溶劑清(qing)潔(jie)超聲(sheng)波(bo)探(tan)傷(shang)儀(yi)的(de)屏幕(mu)。請(qing)用(yong)壹塊(kuai)濕布蘸(zhan)取可蒸發的(de)標準玻(bo)璃(li)清(qing)洗(xi)液(ye)擦拭屏幕(mu)。如有(you)需(xu)要用(yong)軟毛刷刷去(qu)金(jin)屬(shu)探(tan)傷儀殘留的(de)紙(zhi)屑(xie)。切(qie)勿(wu)將液體直(zhi)接(jie)噴(pen)灑(sa)在接(jie)口周邊(bian)。液(ye)體可(ke)能(neng)會(hui)漏進縫(feng)中(zhong)或(huo)從外殼(ke)流(liu)進內(nei)部(bu)使(shi)電(dian)路(lu)受(shou)損(sun)。