微(wei)焦(jiao)點(dian)X射(she)線檢測(ce)系(xi)統(tong)的知識(shi)妳(ni)了解(jie)多少(shao)

　　

　　微(wei)焦(jiao)點(dian)技(ji)術以其(qi)*的成像(xiang)性能得(de)到了(le)越(yue)來越(yue)多的關註(zhu)與(yu)應用(yong)。介(jie)紹(shao)了微(wei)焦(jiao)點(dian)X射(she)線設(she)備(bei)的研制現(xian)狀和基(ji)於X射(she)線(xian)焦(jiao)點(dian)成(cheng)像的物(wu)理機(ji)制。分(fen)析了微(wei)焦(jiao)點(dian)技(ji)術在成(cheng)像(xiang)幾(ji)何不清(qing)晰(xi)度、放大比(bi)、散(san)射(she)線(xian)衰減(jian)和(he)細(xi)節(jie)識別靈(ling)敏度方面(mian)的優(you)勢(shi)，該(gai)技(ji)術可(ke)彌(mi)補常(chang)規(gui)射線照相技(ji)術的不足，在實(shi)時(shi)成像檢測(ce)及工(gong)業X射(she)線(xian)檢測(ce)領域(yu)有著(zhe)廣(guang)泛的應用(yong)前(qian)景。

　　

　　微(wei)焦(jiao)點(dian)X射(she)線檢測(ce)系(xi)統(tong)由高(gao)頻(pin)高(gao)壓微(wei)焦(jiao)點(dian)X射(she)線源、X射線圖像(xiang)傳(chuan)感(gan)器(qi)、計算(suan)機(ji)、四(si)維(wei)機(ji)械平臺(tai)等(deng)組(zu)成，是(shi)集現(xian)代計算(suan)機(ji)軟件技(ji)術、精密(mi)機(ji)械制造(zao)技(ji)術、光學技(ji)術、電子(zi)技(ji)術、傳感(gan)器(qi)技(ji)術、無損(sun)檢測(ce)技(ji)術和圖(tu)像(xiang)處(chu)理技(ji)術等於壹(yi)體(ti)的高(gao)科技(ji)產(chan)品(pin)。是(shi)進行(xing)產(chan)品(pin)研究(jiu)、失效(xiao)分(fen)析、高(gao)可(ke)靠(kao)篩(shai)選(xuan)、質量(liang)評價(jia)、改(gai)進工(gong)藝等工(gong)作的有效(xiao)手(shou)段。

　　

　　系(xi)統(tong)涵蓋了(le)光、機(ji)、電(dian)三(san)大類技(ji)術領域(yu)，利用(yong)X射(she)線(xian)與(yu)成像單元(yuan)相(xiang)配合，能夠(gou)實時(shi)觀測(ce)到輪(lun)轂的檢測(ce)圖像，從(cong)而(er)判(pan)定(ding)內(nei)部(bu)是(shi)否存在(zai)缺陷及缺陷類(lei)型(xing)和(he)等級，同時(shi)通(tong)過計算(suan)機(ji)圖(tu)像(xiang)處(chu)理系(xi)統(tong)完成(cheng)對(dui)圖(tu)像的存儲(chu)和(he)處理，以(yi)提(ti)高(gao)圖(tu)像的清晰(xi)度，保(bao)證(zheng)評定(ding)的準確(que)性。既(ji)具有持(chi)續(xu)穩(wen)定(ding)長時(shi)間工(gong)作(zuo)的能力，也(ye)具有高(gao)放大倍率的能力。

　　

　　微(wei)焦(jiao)點(dian)X射(she)線檢測(ce)滿足客(ke)戶(hu)對(dui)X射(she)線檢測(ce)的需求(qiu)，外形美(mei)觀(guan)、檢測(ce)區域(yu)大、分(fen)辨率強、放大倍率高(gao)。該(gai)系(xi)統(tong)采(cai)用封(feng)閉式射線(xian)源和平板探(tan)測(ce)器(qi)作為核(he)心部(bu)件，具備(bei)的檢測(ce)效果。適(shi)用(yong)於半(ban)導(dao)體、封(feng)裝(zhuang)元器(qi)件、電子連(lian)接器(qi)模(mo)組(zu)檢測(ce)、光伏行業等(deng)特殊(shu)行(xing)業的檢測(ce)。

　　

　　在進行(xing)檢測(ce)時，常(chang)規(gui)微(wei)射線(xian)檢測(ce)存在(zai)很(hen)大差(cha)異(yi)：我們(men)通(tong)常(chang)不需要考慮(lv)圖(tu)像半(ban)影(ying)的大小，即通(tong)常(chang)不考慮(lv)幾(ji)何清(qing)晰(xi)度的影響(xiang)，原(yuan)因(yin)是(shi)當焦(jiao)點(dian)尺(chi)寸(cun)足夠(gou)小時，可(ke)以(yi)忽(hu)略(lve)半影。因(yin)此(ci)，當(dang)X射線視(shi)野在(zai)可(ke)接(jie)受(shou)範(fan)圍(wei)內(nei)，我(wo)們(men)可(ke)以(yi)小化從(cong)樣(yang)品(pin)到焦(jiao)點(dian)的距(ju)離(li)。

　　

　　為什麽要使(shi)用(yong)微(wei)焦(jiao)點(dian)X射(she)線檢測(ce)系(xi)統(tong)，主要是(shi)為了(le)達(da)到納米級直徑跳躍誤差(cha)和運(yun)動精度，確保(bao)樣(yang)品(pin)在測(ce)試過程中的穩定(ding)性(xing)，保(bao)證(zheng)圖(tu)像(xiang)的高(gao)清(qing)畫質，同時具有樣(yang)品(pin)運(yun)動自(zi)適應校(xiao)正功(gong)能，有效(xiao)降(jiang)低(di)了(le)樣(yang)品(pin)掃(sao)描過程中運(yun)動和變(bian)形引起(qi)的不良重(zhong)建效果(guo)。