什(shen)麽是我們(men)所說的壓(ya)鑄(zhu)件(jian)X射(she)線檢(jian)測呢(ne)

 

　　壓(ya)鑄(zhu)件(jian)X射(she)線檢(jian)測是電磁(ci)波(bo)譜中的某特定波長範(fan)圍(wei)內(nei)的電磁(ci)波(bo)，其(qi)特(te)性(xing)通常用(yong)能(neng)量(liang)（單(dan)位：千(qian)電子(zi)伏特(te)，keV）和(he)波長（單(dan)位：鈉米(mi)，nm）描(miao)述(shu)。壓(ya)鑄(zhu)件(jian)X射(she)線檢(jian)測是原(yuan)子(zi)內(nei)產(chan)生(sheng)變化所致的現(xian)象。壹個(ge)穩定的原子(zi)結(jie)構(gou)由(you)原子(zi)核(he)及核外電子(zi)組(zu)成(cheng)。這些(xie)核外(wai)電子(zi)圍(wei)繞著(zhe)原(yuan)子(zi)核(he)按(an)不(bu)同(tong)軌(gui)道(dao)運(yun)轉(zhuan)，它(ta)們(men)按(an)不(bu)同(tong)的能量(liang)分(fen)布(bu)在(zai)不(bu)同(tong)的電子(zi)殼(ke)層(ceng)：分布(bu)在(zai)同(tong)壹殼層(ceng)的電子(zi)具有(you)相同(tong)的能量(liang)。

 

　　當具有(you)高能(neng)量(liang)的入(ru)射(she)（壹次(ci)）X射(she)線與原(yuan)子(zi)發(fa)生(sheng)碰(peng)撞時(shi)，會打(da)破(po)原(yuan)子(zi)結(jie)構(gou)的穩定性。處於(yu)低(di)能量(liang)電子(zi)殼(ke)層(ceng)（如：K層(ceng)）的電子(zi)更容易(yi)被激(ji)發(fa)而從(cong)原(yuan)子(zi)中逐(zhu)放(fang)出(chu)來(lai)，電子(zi)的逐(zhu)放(fang)會導(dao)致該(gai)電子(zi)殼(ke)層(ceng)出(chu)現(xian)相應(ying)的電子(zi)空位。這(zhe)時處於(yu)高能(neng)量(liang)電子(zi)殼(ke)層(ceng)的電子(zi)（如：L層(ceng)）會躍遷(qian)到(dao)該(gai)低(di)能量(liang)電子(zi)殼(ke)層(ceng)來(lai)補充(chong)相應(ying)的電子(zi)空位。由(you)於(yu)不(bu)同(tong)電子(zi)殼(ke)層(ceng)之間存在(zai)著(zhe)能(neng)量(liang)差距，這些能(neng)量(liang)上的差以二(er)次(ci)X射(she)線的形式(shi)釋放(fang)出(chu)來(lai)，不(bu)同(tong)的元(yuan)素(su)所釋放(fang)出(chu)來(lai)的二(er)次(ci)X射(she)線具有(you)特定的能量(liang)特(te)性。儀(yi)器(qi)通過探(tan)測(ce)不(bu)同(tong)的元(yuan)素(su)所釋放(fang)出(chu)來(lai)的二(er)次(ci)X射(she)線具有(you)特定的能量(liang)特(te)性，進行(xing)分析計(ji)算得(de)到各鍍層(ceng)厚度(du)，這(zhe)壹個(ge)過程(cheng)就(jiu)是我們(men)所說的壓(ya)鑄(zhu)件(jian)X射(she)線檢(jian)測。