更新時(shi)間(jian):2019-08-12
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工業(ye)CT系統性(xing)能(neng)指(zhi)標
1. 檢(jian)測範(fan)圍:主(zhu)要(yao)說明該CT的(de)檢(jian)測對象。如能(neng)透(tou)射(she)鋼(gang)的較(jiao)大(da)厚(hou)度(du),檢(jian)測工件的較大(da)回轉直徑(jing),檢(jian)測工件的較大(da)高度(du)或長(chang)度(du),檢(jian)測工件的較大(da)重(zhong)量(liang)等(deng)。
2. 使用(yong)的(de)射(she)線(xian)源(yuan):X射(she)線(xian)能(neng)量(liang)大(da)小(xiao)、工作電(dian)壓(ya)、工(gong)作電(dian)流及(ji)焦(jiao)點(dian)尺(chi)寸。
3. CT的掃(sao)描方(fang)式:具(ju)有(you)哪幾(ji)種掃(sao)描方(fang)式,有(you)無數(shu)字射(she)線(xian)檢(jian)測或實時(shi)成像(xiang)功能(neng)等(deng)。
4. 掃(sao)描檢(jian)測時(shi)間(jian):指(zhi)掃(sao)取(qu)壹個(ge)斷(duan)層數據(ju)的(de)采集(ji)時(shi)間(jian)。
5. 圖(tu)像重(zhong)建(jian)時(shi)間(jian):指(zhi)重(zhong)建(jian)圖(tu)像所需的時(shi)間(jian)。
6. 分(fen)辨(bian)能(neng)力(li):是關鍵(jian)的(de)性(xing)能(neng)指(zhi)標,包括(kuo):
· 空間(jian)分(fen)辨(bian)率(lv):是指(zhi)從CT圖(tu)像中能(neng)夠(gou)辨(bian)別(bie)較小(xiao)物體(ti)的(de)能(neng)力(li)。
· 密度(du)分(fen)辨(bian)率(lv):它(ta)是利(li)用(yong)圖(tu)象的(de)灰度(du)去分(fen)辨(bian)被檢(jian)物材質的基(ji)本方(fang)法(因(yin)為灰(hui)度(du)是直接(jie)反(fan)映密度(du)的)。
· 空間(jian)分(fen)辨(bian)率(lv)與(yu)密(mi)度(du)分(fen)辨(bian)率(lv)的(de)關系。在(zai)輻(fu)射(she)劑量壹(yi)定的情況(kuang)下(xia),空間(jian)分(fen)辨(bian)率(lv)與(yu)密(mi)度(du)分(fen)辨(bian)率(lv)是相互(hu)矛盾的(de)兩個(ge)指(zhi)標。
掃(sao)碼加(jia)微(wei)信(xin)