X射(she)線晶(jing)體分(fen)析儀(yi)能(neng)夠(gou)提供(gong)穩定(ding)的X射(she)線光(guang)源

　　

　　X射(she)線晶(jing)體分(fen)析儀(yi)能(neng)夠(gou)提供(gong)穩定(ding)的X射(she)線光(guang)源,特(te)點是(shi)利(li)用(yong)可(ke)控(kong)矽和(he)集(ji)成(cheng)電(dian)路(lu)自(zi)動控制系統進(jin)行調(tiao)流(liu)調(tiao)壓,從(cong)而獲得(de)壹個(ge)強而穩(wen)定(ding)的射(she)線光(guang)源.該機(ji)射(she)線發(fa)生器(qi)功率(lv)大(da),整機(ji)穩(wen)定(ding)性(xing)高(gao),操(cao)作簡單(dan),可(ke)靠(kao)性(xing)強,防護完善,可(ke)與(yu)各種(zhong)射(she)線照(zhao)相(xiang)機(ji)壹起構(gou)成(cheng)X射(she)線晶(jing)體分(fen)析儀(yi),或(huo)用(yong)於其(qi)他(ta)用(yong)途(tu)的(de)X射(she)線光(guang)源。廣泛(fan)用(yong)於冶(ye)金(jin)、機(ji)械(xie),電(dian)子(zi)、化工、地(di)質(zhi)、能(neng)源等(deng)科研(yan)、企(qi)業、大(da)專院校。

　　

　　X射(she)線晶(jing)體分(fen)析儀(yi)主要用(yong)於研(yan)究(jiu)物質內(nei)部微(wei)觀(guan)結構。如(ru)：單晶(jing)定(ding)向、檢(jian)驗(yan)缺(que)陷(xian)、物質定(ding)性(xing)、測(ce)定(ding)點陣(zhen)參(can)數(shu)、測(ce)定(ding)殘余應(ying)力(li)等(deng)。

　　

　　X射(she)線晶(jing)體分(fen)析儀(yi)主要特(te)點：

　　

　　1.冷(leng)卻(que)裝置(zhi)：自(zi)帶(dai)制(zhi)冷(leng)系(xi)統，無需外接水循(xun)環(huan)，並(bing)自動(dong)控制(zhi)水溫(wen)及顯示(shi)X光(guang)管溫(wen)度。

　　

　　2.外射(she)線計量不大(da)於2.5μSv/h

　　

　　3.X光(guang)管：額(e)定(ding)功率(lv)2KW(銅(tong)靶)

　　

　　4.定(ding)時：單(dan)片機(ji)自(zi)動定(ding)時，定(ding)時時(shi)間任意(yi)選擇(ze)。

　　

　　X射(she)線晶(jing)體分(fen)析儀(yi)技(ji)術(shu)指(zhi)標(biao)及(ji)配(pei)置(zhi)

　　

　　X射(she)線晶(jing)體分(fen)析儀(yi)zui大(da)管壓：60kV，zui大(da)管流(liu)：60mA；陶(tao)瓷(ci)X光(guang)管zui大(da)功率(lv)：2.2kW（Cu靶(ba)），zui大(da)管壓：60kV，zui大(da)管流(liu)：55mA，測(ce)角(jiao)儀(yi)掃(sao)描方(fang)式有(you)θ/θ和θ/2θ兩(liang)種(zhong)，多(duo)功能(neng)樣品(pin)臺、X’Celerator超(chao)能(neng)探(tan)測器(qi)、升(sheng)溫(wen)附(fu)件和(he)小(xiao)角(jiao)散(san)射(she)附(fu)件